激光共聚焦顯微鏡的基本原理及應用等相關知識的探討 激光共聚焦顯微鏡作為一種微觀形態學工具，激光共聚焦顯微鏡是80年代發展起來的一項劃時代意義的高科技新產品，它是在熒光顯微鏡成像基礎上加裝了激光掃描裝置，利用計算機進行圖象處理，使用紫外或可見光激發熒光探針，從而得到細胞或組織內部微細結構的熒光圖象，激光共聚焦顯微鏡在亞細胞水平上觀察例如Ca2+，pH值，膜電位等生理信號及細胞形態的變化，成為形態學，分子細胞生物學，神經科學，藥理學，遺傳學等領域中新一代強有力的研究工具。 激光共聚焦顯微鏡基本原理： 激光共聚焦顯微鏡基本結構比光學顯微鏡要復雜，它除了包括光學顯微鏡部分之外，主要由激光光源、掃描裝置、檢測器、計算機系統(包括數據采集，處理，轉換、應用軟件)、圖象輸出設備、光學裝置和共聚焦系統(如光學濾片，分光器，共聚焦針孔及相應的控制系統)等部分組成。 傳統的光學顯微鏡使用的是場光源，標本上每一點的圖象都會受到鄰近點的衍射光或散射光的干擾;激光共聚焦顯微鏡利用激光束經照明針孔形成點光源對標本內焦平面上的每一點掃描，標本上的被照射點，在探測針孔處成像，由探測針孔后的光電倍增管(PMT)或冷電耦器件(cCCD)逐點或逐線接收，迅速在計算機監視器屏幕上形成熒光圖象。照明針孔與探測針孔相對于物鏡焦平面是共軛的，焦平面上的點同時聚焦于照明針孔和發射針孔，焦平面以外的點不會在探測針孔處成像，激光共聚焦顯微鏡這樣得到的共聚焦圖象是標本的光學橫斷面，克服了普通顯微鏡圖象模糊的缺點。 激光共聚焦顯微鏡在材料領域應用初探： 激光共聚焦顯微鏡的發展在國外，主要為日本。是從80年代末期開始的，目前在日本，激光共聚焦顯微鏡已經是一種被廣泛采用的技術，既用來觀察樣品表面亞微米程度（0.12微米）的三維形態和形貌，又可以測量多種微小的尺寸，諸如體積、面積、晶粒、膜厚、深度、長寬、線粗糙度、面粗糙度等等。 另外，激光共聚焦顯微鏡還有以下特點： 1、使用方便，與一般光學相似，且全部采用計算機直觀控制。 2、基本無須制樣，不損傷樣品。不需要做導電處理，也容許大尺寸樣品直接觀察，完全不破壞樣品。 3、幾十秒到一兩分鐘即完成全部的掃描，成像，測量采樣工作。激光共聚焦顯微鏡目前已經用于材料和機械加工方面的研究。