研究型原子力顯微鏡
Park XE7配有Park Systems的所有**技術(shù)，而且價(jià)格十分親民。與Park Systems的其他上等型號(hào)相比，XE7在細(xì)節(jié)的設(shè)計(jì)上也相當(dāng)用心，是幫助您準(zhǔn)時(shí)且不超預(yù)算地完成研究的理想之選。
Park XE7通過(guò)消除掃描器串?dāng)_進(jìn)行準(zhǔn)確的XY掃描
Park Systems的先進(jìn)串?dāng)_消除(XE)掃描系統(tǒng)能夠有效解決上述問(wèn)題。我們使用了二維柔性平臺(tái)專門掃描樣品的XY軸位置，并通過(guò)壓電疊堆傳動(dòng)裝置專門掃描探針懸臂的Z軸位置。用于XY軸掃描的柔性平臺(tái)采用了固體鋁材，其具有超高的正交性和出色的平面外運(yùn)動(dòng)軌跡。柔性平臺(tái)可在XY軸掃描大型樣品（1 kg左右），頻率*高達(dá)100 Hz左右。由于XY軸的帶寬要求遠(yuǎn)低于Z軸的帶寬要求，因此該掃描速度已然足夠。用于Z軸掃描的壓電疊堆傳動(dòng)裝置具有大的推拉力和高共振頻率（約10 kHz)。
XE scan system 適用于樣品和探針**的獨(dú)立XY軸和Z軸柔性掃描器 XY flexure scanner 平直正交的XY軸掃描，殘余彎曲低 XE-Peformence 圖9. (a)表示Park Systems XE系統(tǒng)的背景曲率為零，而(b)是傳統(tǒng)的原子力顯微鏡系統(tǒng)的管式掃描器的典型背景曲率，(c)展示了這些背景曲率的橫截面。 圖9展示了XE系統(tǒng)(a)和傳統(tǒng)原子力顯微鏡(b)掃描硅片時(shí)，未處理的成像圖。由于硅片屬于原子級(jí)光滑材料，因此圖像中的彎曲大多數(shù)是掃描器所引起的。圖9(c)展示了圖9中(a)(b)圖像的橫截面。由于管式掃描器本身帶有背景曲率，因此當(dāng)X軸的位置移動(dòng)15 μm時(shí)，平面外移動(dòng)*大可達(dá)80 nm。而在相同的掃描范圍內(nèi)，XE掃描系統(tǒng)的平面外移動(dòng)則不超過(guò)1 nm。XE掃描系統(tǒng)的另一大優(yōu)勢(shì)是Z軸伺服回應(yīng)。圖10是XE掃描系統(tǒng)在無(wú)接觸模式下拍下的一個(gè)多孔聚合物球體（二乙烯苯）的圖像，其直徑大約為5 μm。由于XE掃描系統(tǒng)的Z軸伺服回應(yīng)極其精準(zhǔn)，探針可以**地沿著聚合物球體上的大曲率以及小孔平面結(jié)構(gòu)移動(dòng)，而不會(huì)壓碎或粘連在其表面上。圖11是Z軸伺服回應(yīng)在平坦背景上高性能的表現(xiàn)。
XE scan system
XY flexure scanner
XE-Peformence
圖9. (a)表示Park Systems XE系統(tǒng)的背景曲率為零，而(b)是傳統(tǒng)的原子力顯微鏡系統(tǒng)的管式掃描器的典型背景曲率，(c)展示了這些背景曲率的橫截面。 圖9展示了XE系統(tǒng)(a)和傳統(tǒng)原子力顯微鏡(b)掃描硅片時(shí)，未處理的成像圖。由于硅片屬于原子級(jí)光滑材料，因此圖像中的彎曲大多數(shù)是掃描器所引起的。圖9(c)展示了圖9中(a)(b)圖像的橫截面。由于管式掃描器本身帶有背景曲率，因此當(dāng)X軸的位置移動(dòng)15 μm時(shí)，平面外移動(dòng)*大可達(dá)80 nm。而在相同的掃描范圍內(nèi)，XE掃描系統(tǒng)的平面外移動(dòng)則不超過(guò)1 nm。XE掃描系統(tǒng)的另一大優(yōu)勢(shì)是Z軸伺服回應(yīng)。圖10是XE掃描系統(tǒng)在無(wú)接觸模式下拍下的一個(gè)多孔聚合物球體（二乙烯苯）的圖像，其直徑大約為5 μm。由于XE掃描系統(tǒng)的Z軸伺服回應(yīng)極其精準(zhǔn)，探針可以**地沿著聚合物球體上的大曲率以及小孔平面結(jié)構(gòu)移動(dòng)，而不會(huì)壓碎或粘連在其表面上。圖11是Z軸伺服回應(yīng)在平坦背景上高性能的表現(xiàn)。
在True Non-Contact?模式中，探針**與樣品的距離在相互原子力的控制下，被成功地控制在幾納米之間。探針**振動(dòng)幅度下，大大減少了探針與樣品的接觸，從而完好地保護(hù)了探針和樣品。
True Non-Contact? Mode
Tapping Imaging
Longer Tip Life and Less Sample Damage
原子力顯微鏡探針的**十分脆弱，這使得它在接觸樣品后會(huì)快速變鈍，從而限制原子力顯微鏡的分辨率和圖像的質(zhì)量。對(duì)于材質(zhì)較軟的樣品，探針會(huì)破壞樣品，導(dǎo)致其高度測(cè)量不準(zhǔn)確。相應(yīng)地，探針保持完整性意味著顯微鏡可以持續(xù)提供高分辨率的**數(shù)據(jù)。XE系列原子力顯微鏡的真正非接觸模式能夠極大程度保護(hù)探針，從而延長(zhǎng)其壽命，并減少對(duì)于樣品的破壞。下圖中以1:1的長(zhǎng)寬比展示了XE系列原子力顯微鏡掃描淺溝道隔離樣品的未處理圖像，該樣品的深度由掃描電子顯微鏡(SEM)確定。在成像20次之后，探針幾乎有沒(méi)任何磨損。
Park XE7規(guī)格
可觀察樣品表面和探針的直視同軸光學(xué)系統(tǒng) 視場(chǎng)：480 μm X 360 μm（10倍物鏡） CCD：120萬(wàn)像素（默認(rèn)）, 500萬(wàn)像素, 可選（視場(chǎng):840 μm X 630 μm）
磁學(xué)特性
介電/壓電特性
· 壓電響應(yīng)譜
· 靜電力顯微鏡（EFM）
機(jī)械性能
· 電化學(xué)池
· 手套箱 · 磁場(chǎng)發(fā)生器